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真空熱處理系列
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· VSF系列真空燒結爐（金剛石）
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真空高溫高壓系列
· VPF系列真空超高溫超高壓爐(機械加壓）
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HIP熱等靜壓系列
· HIP熱等靜壓設備
不銹鋼管（高端能源、EP潔凈）專用熱處理系列
· VQG系列大型立式真空高壓固溶時效成套設備（直管、盤管）
· VCHF系列真空連續熱處理設備（直管、盤管）
· EP管專用熱處理套設備（直管）
· VQG系列底裝式高壓固溶設備（盤管、直管）
鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列
· VAF系列鈦合金真空退火爐
· VDF系列真空除氣爐（石墨膜殼）
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真空氫化系列
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碳材料特種生產線設備
· VPI系列真空壓力浸漬爐
· VMF系列真空電阻炭化爐（馬弗爐）
· VCDF系列真空化學氣相沉積爐
· VHSF系列真空高溫石墨化爐
連續生產線
· VMF系列真空鎢網爐/連續生產線
半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：
主要用于鈦、鋯管材和板材的退火熱處理。也可用于陶瓷芯塊等特殊材料的熱處理等工藝。
優勢與特點：
加熱結構多區，加熱均勻。
有效工作空間體積小，潔凈無污染。
爐門配有獨特密封結構，確保正負壓雙方向密封。
冷卻方式多樣性，可供選擇。
可選項：
1、固定式
2、移動式
